Karakteristike:

1) Brzina nitriranja je veća, ciklus nitriranja može se odgovarajuće skratiti, a vrijeme ionskog nitriranja može se skratiti na 1/3-2/3 vremena plinskog nitriranja.

2) Krhkost nitriranog sloja je mala, a bijeli sloj koji se formira na površini plazma nitriranja je vrlo tanak ili ga čak nema. Osim toga, deformacija uzrokovana nitriranim slojem je mala, što je posebno pogodno za precizne dijelove složenih oblika.

3) Može se uštedjeti potrošnja energije i amonijaka. Potrošnja električne energije iznosi 1/2-1/5 plinskog nitriranja, a potrošnja amonijaka 1/5-1/20 plinskog nitriranja.

4) Lako je ostvariti lokalno nitriranje, sve dok dio koji ne želi nitrirati ne proizvodi sjaj, dio koji se ne nitrira lako je zaštititi, a sjaj se može zaštititi mehaničkim oklopom i željeznom pločom.

5) Ionsko bombardiranje može pročistiti površinu i automatski ukloniti pasivizacijski film. Nehrđajući čelik i toplinski otporni čelik mogu se izravno nitrirati bez prethodnog uklanjanja pasivizacijskog filma.

6) Struktura složenog sloja, debljina i struktura infiltracijskog sloja mogu se kontrolirati.

7) Raspon temperatura obrade je širok, a određena debljina nitrirajućeg sloja može se postići čak i ispod 350 C.

8) Poboljšani su radni uvjeti. Obrada nitriranjem plazmom bez zagađenja provodi se pod vrlo niskim tlakom s vrlo malo ispušnih plinova. Izvor plina je dušik, vodik i amonijak, te se u osnovi ne proizvode štetne tvari.

9) Može se primijeniti na sve vrste materijala, uključujući nehrđajući čelik, toplinski otporni čelik s visokom temperaturom nitriranja, alatni čelik i precizne dijelove s niskom temperaturom nitriranja, dok je nitriranje na niskim temperaturama prilično teško za plinsko nitriranje.